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佛欣告诉你磁控溅射的原理及特点
发布时间:2016-09-26     阅读:2168

    磁控溅射原理:为了提高离化率,增加溅射沉积的速率,在靶背面增加磁场是个有效的方法---电场与磁场的交互作用,使得二次电子在靶面做螺旋式运动,大大延长了二次电子的运动行程,从而大大增加了它同气体分子碰撞的机会,从而大大地提高了离化率,增加了溅射速率。
磁控溅射特点:1、离化率高,等离子密度大,从而提高了溅射速率; 2、减少了电子对基材的轰击,从而有效地降低了基材的温升;3、平面靶材利用率低,只有20-30%左右,不过目前可以使用旋转圆柱靶材,可以获得70%以上的利用率。
    佛欣真空主产的磁控溅射设备称为:FOXIN-IP磁控离子溅射镀膜机,主要的种类有:手机、表壳、表带镀膜设备;首饰饰品、眼镜架镀膜设备;高尔夫球头、超黑镀膜设备等。设备的特点是离化率高、沉积速率高、磁控溅射低温稳定。镀膜设备的具体配置可根据客户产品及所需镀膜工艺要求进行设计。


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